批量濕蝕刻和清潔工藝涉及同時(shí)處理多個(gè)晶圓。將晶片浸入，并且通過(guò)過(guò)濾重復(fù)循環(huán)處理化學(xué)品，該過(guò)濾設(shè)計(jì)是為了去除晶片表面正在被蝕刻的顆粒。在多道次濕法蝕刻和清潔工藝中，具有較高流動(dòng)性的過(guò)濾器可以增加熔池周轉(zhuǎn)以改善顆粒去除效率。
XZC提供一系列耐化學(xué)腐蝕和低金屬材料的濾芯，可以改善這一工藝周轉(zhuǎn)率。我們的褶皺濾芯提供了關(guān)鍵的濕法蝕刻和清潔過(guò)程中通常需要的流量和使用壽命。
